半导体制造是一个对环境要求极高的过程，许多工艺步骤对温度非常敏感。

例如，在光刻工艺中，光刻机的光学系统需要在稳定的温度环境下工作，因为温度的微小变化可能导致光路的偏差，进而影响光刻的精度。在化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等工艺中，反应温度直接影响薄膜的质量和性能。精确的温度控制能够确保沉积的薄膜厚度均匀、成分准确，从而提高芯片的性能和良率。