制冷加热控温系统
SUNDI系列制冷加热控温系统性能优越,高精度、智能型温度控制,非常宽的温度控制范围,从-120℃~350℃一应俱全,适合多数企业恒温控制需求。
产品控温精度可达±0.1℃,制冷功率从0.5kW到1200kW均可提供相应产品。
SUNDI系列制冷加热控温系统
控温范围:-120°C ~ +350°C
特点:不仅可以控制导热介质温度,还可以控制反应物料温度
应用:各种反应器(微通道、玻璃、夹套反应器等)、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、医疗、医院、研发车间、航空航天和生物等行业。
高精度制冷加热控温系统
控温范围:-85°C ~ +250°C
特点:控温精度可达0.3°C
应用:各种反应器(微通道、玻璃、夹套反应器等)、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、化学、制药、石化、生化、医疗、医院、研发车间、航空航天和生物等行业。
产品型号 | TES -45°C ~ +200°C | TES -85°C ~ +250°C | TES -60°C ~ +200°C |
制冷量 | 高达25kW | 高达25kW | 高达60kW |
微通道/管式反应器专用控温系统
控温范围:-70°C ~ +250°C
特点:针对微通道反应器持液量少、换热能力强、循环系统压降大特点专门设计开发。
优势:优化温度采样及响应速度,专门设计控制算法,能快速响应到控温稳定。增强循环泵能力设计,满足反应器高压降需求持续高温降温技术,满足在高温放热反应时,需要冷热恒温控制时稳定运行。
产品型号 | WTD -70°C ~ +250°C | WTD -45°C ~ +250°C 双温区 | WTD -70°C ~ +200°C 双温区 |
控温精度 | ±0.3°C | ±0.3°C | ±0.5°C |
制冷加热控温系统(氟化液)
控温范围:-80°C ~ +80°C
氟化液制冷加热控温系统广泛运用在半导体制程中对反应腔室控温、热沉板控温及需要传热截止不可燃流体控温场所,适用于半导体芯片制造流程、功率器件、航空电子设备中的制冷加热温度控制。
产品不仅能在众多传热应用中提供较好性能,而且不会对人身安全和环境可持续性产生负面影响。氟化液具有工作温度范围宽泛,易于维护等特点,是传统冷却液体(如水、水乙二醇或油)的理想替代品。
产品型号 | LTS -20°C ~ +80°C | LTS -40°C ~ +80°C | LTS -60°C ~ +80°C | LTS -80°C ~ +80°C |
控温精度 | ±0.1°C | ±0.1°C | ±0.1°C | ±0.1°C |
制冷加热循环器
控温范围:-45°C ~ +250°C
特点:仅控制导热介质温度,不支持控制反应物料温度
应用:各种反应器(微通道、玻璃、夹套反应器等)、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、化学、制药、石化、生化、医疗、医院、研发车间、航空航天和生物等行业。
产品型号 | HR系列 | HRT系列 |
温度范围 | -25°C ~ +200°C | -45°C ~ +250°C |
加热系统
控温范围: +50°C ~ +300°C
应用:各种反应器(微通道、玻璃、夹套反应器等)、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、化学、制药、石化、生化、医疗、医院、研发车间、航空航天和生物等行业。
备注:UC系列仅可控制导热介质温度,UST系列不仅可以控制导热介质温度还可以反应物料温度。
型号 | UC200系列 | UC300系列 | UST系列 |
温度范围 | +50°C ~ +200°C | +50°C ~ +300°C | +50°C ~ +300°C |
TCU温度控制单元
控温范围: -120°C to +250°C
应用:化学、制药、石化、生物等行业,大型生产级别控温需求,比如中式车间、制药化工厂区生产用各类反应器、蒸馏器、萃取系统、发酵罐等。
型号 | ZLF系列 | SR系列 | ST系列 | DCS大系统 |
温度范围 | -45°C ~ +250°C | -120°C ~ +250°C | +10°C ~ +135°C | 集散式控温系统 |
- 高效的生产稳定性和可重复性结果;
- 采用板式换热器、管道式加热器提高制冷和加热速率;
- 非常宽的温度范围,无需更换液体介质;
- 全密闭系统,延长导热液体寿命;
- 采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题;
- 高温降温技术,300℃直接开启压缩机制冷降温。
1、改变控制设定值的方法,能够尽快的响应过程中的系统滞后,得到较小的系统过冲。控制由两组PID(每组PID是可变的)控制回路构成,这两组控制回路称为:主回路和从回路,主回路的控制输出作为从回路的设定值。系统采用带有前馈PV ,主控回路的PID运行结果的输出与前馈PV信号复合后作为从控制回路的设定值,通过这样对温度变化梯度控制,保证系统控温精度。(一般抗滞后串级控制)
2、专门设计的滞后预估器(无模型自建树算法)产生一个代替过程变量y(t)的动态信号yc(t)来作为反馈信号。对控制器产生一个e(t)信号,使控制器预判控制作用没有大的滞后,这样控制器总是能够产生一个合适的控制信号。也就是说,即使存在大滞后,这个动态信号yc(t)也能保持反馈回路正常工作.而用一般PID来控制具有显著时间滞后的过程,则控制器输出在滞后时间内由于得不到合适的反馈信号保持增长,从而导致系统响应超调大甚至使系统失控。
3、通过三点采样(物料温度点、温控系统出口温度、温控系统进口温度),通过我们公司自创无模型自建树算法和一般抗滞后串级算法相结合。
无锡冠亚恒温制冷提供7*24的免费咨询,您只需要提供自己控温需求,由我们给你提供全面的解决方案!
控温范围: -150°C ~ -5°C
控温范围: -40°C ~ +100°C
控温范围: -85°C ~ +250°C
控温范围: -150°C ~ -10°C
- 高压反应釜冷热源动态恒温控制
- 双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制
- 双层反应釜冷热源动态恒温控制
- 微通道反应器冷热源恒温控制
- 小型恒温控制系统、蒸馏系统控温
- 材料低温高温老化测试
- 组合化学冷源热源恒温控制
- 半导体设备冷却加热
- 真空室制冷加热恒温控制
采用全密闭管道式设计,降低导热液需求量的同时,提高系统的热量利用率,达到快速升降温度。
膨胀容器中的导热介质不参与循环,可以降低导热介质在运行中吸收水分和挥发的风险;
高温时没有导热介质蒸发出来,而且不需要加压的情况下就可以实现:-80~190℃、-70~220℃、-88~170℃、-55~250℃、-30~300℃连续控温;
无锡冠亚恒温制冷提供7*24的免费咨询,您只需要提供自己控温需求,由我们给你提供全面的解决方案!